特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿(mǎn)足使用要求,這種氣體稱(chēng)為一般混合氣體。

對(duì)氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測(cè)儀的燃料氣。

在測(cè)定放1射性物質(zhì)時(shí),使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學(xué)反應(yīng)、動(dòng)植物實(shí)驗(yàn)室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關(guān)系到公害問(wèn)題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)

針對(duì)過(guò)去使用中存在的問(wèn)題，現(xiàn)代試驗(yàn)室對(duì)載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革，即 “集中供氣系統(tǒng)”，即將使用氣體（以下簡(jiǎn)稱(chēng)載氣）集中貯存，然后通過(guò)壓差的原理將氣體經(jīng)過(guò)金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。其優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn)：

1、首先解決氣瓶的放置問(wèn)題。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對(duì)獨(dú)立的房間，如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi)，則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間，這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離，即使有害氣體有泄漏，也不會(huì)發(fā)生直接傷害。氣體配比儀采用高精度質(zhì)量流量計(jì)，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。

2、其次氣體混合的問(wèn)題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個(gè)氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開(kāi)存貯。

3、再次是解決氣瓶壓力的問(wèn)題。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過(guò)一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。因?yàn)闅馄块g是相對(duì)獨(dú)立的，整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處，因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi)，可對(duì)人體及儀器的傷害可降到1低。特種氣體的應(yīng)用領(lǐng)域主要在集成電路制造、太陽(yáng)能電池、化合物半導(dǎo)體、液晶顯示器、光纖生產(chǎn)四大領(lǐng)域,其中主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)制造。

小流量氣體凈化系統(tǒng)

高純供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣，應(yīng)用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類(lèi)氣體分析儀器純化載氣或零點(diǎn)氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供超高純的工藝氣體。氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過(guò)濾器，其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。

氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過(guò)濾器，其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。

氣體配比儀采用質(zhì)量流量計(jì)，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。